ExLibris header image
 

SFX by Ex Libris Inc.

Contains information about title and source of a journal
Naslov: The importance of annealing and stages coverage on the epitaxial growth of complex oxides on silicon by pulsed laser deposition
Vir:

Rsc Advances [2046-2069] Diaz Fernandez, Daniel l. 2017, letn. 7, št. 40, str. 24709 -24717

List of services to meet your request

Contains list of services for current record



  Dostopno iz prostorov UL, CTK, NIB in NUK. Oddaljen dostop za študente in zaposlene UL, CTK, NIB in NUK, ki so člani knjižnic teh inštitucij.
Če se nahajate izven svoje inštitucije, po kliku na povezavo vpišite geslo za odd. dostop.





  Dostop je mogoč iz prostorov Univerze v Mariboru in z oddaljenim dostopom za študente in zaposlene na Univerzi v Mariboru.

  Dostop je mogoč iz prostorov Univerze v Mariboru in z oddaljenim dostopom za študente in zaposlene na Univerzi v Mariboru.




  Dostop v okviru konzorcija Scopus zagotavlja Centralna tehniška knjižnica (CTK) UL.
  Oddaljen dostop za člane knjižnice Fakultete za informacijske študije v Novem mestu.


  Dostop do servisa v okviru konzorcija WoS zagotavlja Institut informacijskih znanosti (IZUM). V primeru težav pri dostopu se obrnite na e-poštni naslov podpora@izum.si.
  Dostop je mogoč iz prostorov članic konzorcija WoS.



 
 
 

 
 
 


© 2024 SFX by Ex Libris Inc. | Cookie Policy
CrossRef Omogočeno